Amigo TS

Êtes-vous à la recherche d’une productivité plus élevée, d’un contraste amélioré et d’une vie utile du bain prolongée ? Alors la plaque Amigo TS sans chimie est faite pour vous.
Amigo TS

En lieu et place du traitement chimique traditionnel, l’Amigo TS utilise la technologie physique éprouvée ThermoFuse. L’exposition est ainsi simplifiée et offre une qualité élevée uniforme, ainsi qu’une résistance chimique et une latitude de traitement remarquables, plaque après plaque.

Cette plaque fonctionne sur tous les CtP thermiques 830 nm et peut gérer des fluctuations de l’énergie du laser sans pratiquement aucune incidence sur la qualité des images. Elle fonctionne parfaitement en lumière du jour et tolère des variations d’exposition et de traitement en vous garantissant une stabilité parfaite.

Avantages clés

  • Stabilité du traitement pré-presse et sur presse
  • Impressions uniformes de haute qualité
  • Équilibre encre / eau stable
  • Faible consommation de produits chimiques
  • Convient à un large éventail d’applications

Caractéristiques

Exposition simplifiée

L’exposition n’a jamais été aussi simple et directe. Amigo TS tolère davantage de variables d’exposition et de traitement qu’une plaque standard développée chimiquement. Vous obtenez ainsi des plaques parfaites, sans réfection avec moins d’efforts. Même le nettoyage de la développeuse est simplifié grâce à des niveaux de maintenance et d’entretien ramenés au strict minimum. Vous réduisez ainsi votre empreinte écologique.

Imagerie physique

De nombreuses variables d’exposition sont éliminées lors de l’utilisation de la technologie reconnue et innovante ThermoFuse™ d’Agfa, qui se caractérise par une formation des images purement physique. Le revêtement de l’Amigo TS est composé de plusieurs millions de perles thermoplastiques individuelles. Comme il s’agit d’une plaque négative, les diodes laser 830 nm exposent l’image. Dans les zones exposées, ces perles thermoplastiques sont chauffées. Elles fondent, fusionnent entre elles et adhérent fermement au substrat afin de créer l’image sur la plaque. Les zones non exposées sur la plaque sont nettoyées dans la développeuse à l’aide d’une solution dédiée.

Des performances sur presse supérieures

La simplicité de l’exposition et du développement des plaques Amigo TS vous assure que vos presses seront approvisionnées par un flux constant de plaques de la meilleure qualité. La technologie éprouvée utilisée dans ce revêtement de plaques offre une excellente résistance chimique, faisant des plaques Amigo TS la solution parfaite pour un large éventail d’applications d’impression offset feuilles ou rotative. La cuisson augmentera significativement la longueur de tirage. La « technologie de substrats plats » spécialement développée garantit un équilibre optimisé eau / encre et assure une longévité de tirage exceptionnelle.

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Caractéristiques des plaques
Type de plaque Plaque offset négative ThermoFuseTM sans chimie
Substrat Aluminium de haute qualité grainé et anodisé
Sensibilité spectrale 830 nm (diode laser thermique)
Sensibilité pratique 180 mJ/cm²
Compatibilité CtP Compatible avec la plupart des CtP thermiques
Contraste de l’image Bon, il peut être mesuré avec tous les densitomètres et lecteurs de plaques du marché
Dimensions des plaques Toutes les presses feuilles et rotatives
Résolution (en fonction du CtP) ABS : 2 à 98 % à 200 lpi à 2400 dpi

Sublima : 1 à 99 % à 240 lpi à 2400 dpi

Epaisseurs disponibles 0,15, 0,20, 0,24, 0,30, 0,40 mm (0,006 po, 0,008 po, 0,010 po, 0,012 po, 0,016 po)
Longévité de tirage Jusqu’à 200 000 ex en fonction des conditions de la presse, ne convient pas aux encres UV
Traitement
Solution de nettoyage Solution de nettoyage Amigo TS
Taux de régénération 30-50 ml/m²
Longévité du bain 50 m²/l ou 6 semaines
Développeuse Développeuse avec bac de trempage, rouleau molletonné préféré
Vitesse de passage 17 sec. dans le liquide
Environnement
Éclairage de la salle CtP Jusqu’à 16 heures en plein jour
Conditions de la salle (température, humidité relative) 18 à 24 °C (64 à 75 °F), HR < 70 %
Conditions de stockage Températures ambiantes inférieures à 25 °C, HR < 70 %
Storage conditions Ambient temperatures below 25°C, < 70% RH